[26p-F308-1~4] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[26p-F308-1] 一方向照明の適用による放物面鏡投影露光レジストパターンの改善

〇堀内 敏行¹、小林 宏史¹ (1.東京電機大工)

キーワード：立体面投影露光、放物面鏡、一方向照明

立体面への大パターン投影露光リソグラフィを目指す放物面鏡光学系により200µmライン&スペースを形成できたが、パターン形成範囲が狭かったため、改善を試みた。今迄リングライトにより全方位的に照明していたが、経路により光線到達点が異なり、フィールド周辺で像が劣化することが分かった。左下から右上への一方向のみから照明した結果、フィールド全域にパターン形成でき、形状歪みも小さく抑えることができた。