一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料
2023年3月17日(金) 13:30 〜 17:45 D419 (11号館)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 14:00
〇山原 弘靖1、Feng Bing1、関 宗俊1、足立 真輝1、Md Shamim Sarker1、武田 崇仁1、小林 正起1、石川 亮1、幾原 雄一1、長 康雄2、田畑 仁1 (1.東大院工、2.東北大NICHe)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(M2)寺尾 健裕1、山原 弘靖1、関 宗俊1、田畑 仁1 (1.東京大学)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(M2)吉野 貴大1、山原 弘靖1、田畑 仁1、関 宗俊1 (1.東大院工)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇朝野 航1、西 敬生2、大島 大輝3、加藤 剛志3、李 基鎮4、河原 正美5、西川 雅美1、石橋 隆幸1 (1.長岡技大、2.神戸高専、3.名古屋大学、4.西江大学、5.高純度化学)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇川口 昂彦1、杉浦 怜希1、坂元 尚紀1、脇谷 尚樹1 (1.静大院工)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇(M1)梅田 佳孝1、小野 広喜1、山本 航平3、石山 修3、横山 利彦3、水口 将輝1,2、宮町 俊生1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.分子研)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
Jessiel Siaron GUERIBA1,2、Nur Ellina Annisa SALEHUDDIN1,3、〇Wilson Agerico Tan Dino1,2,3、Kiminori WASHIKA4、Hiroshi NAKAMURA5、Tatsumi KAWAFUCHI4 (1.Osaka Univ.、2.DLSU-Philippines、3.UKM-Malaysia、4.Hirotec Co., Ltd.、5.Charmant, Inc.)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇中島 智彦1、野本 淳一1、北中 佑樹1、山口 巖1 (1.産総研)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇(M2)堤 冬美花1、青井 芳史1 (1.龍谷大院理工)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇後藤 真宏1、佐々木 道子1 (1.物材機構)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇(B)佐々木 啓太1、神永 健一2、丸山 伸伍2、松本 祐司2 (1.東北大、2.東北大院工)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇(M1)福士 英里香1、森 史弥1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.物材研)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇阿部 良夫1、川村 みどり1、金 敬鎬1、木場 隆之1 (1.北見工大)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇Li Fenghao1、Eun Ki Hong1、JiaAng Zhao1、Ohmi Shun-ichiro1 (1.Tokyo Inst. of Technology)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇Xinjue Wang1、Haining Li1、Hiroyasu Yamahara1、Hitoshi Tabata1、Munetoshi Seki1 (1.Tokyo Univ.)
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