[16p-A302-1~8] マイクロ・ナノスケール微細加工の表面界面先端技術

[16p-A302-6] 半導体デバイス製造用ナノインプリントリソグラフィの開発状況

〇酒井 啓太¹ (1.キヤノン)

キーワード：ナノインプリント

半導体デバイスの製造用にキヤノンが開発しているナノインプリントリソグラフィ装置FPA-1200 NZ2Cについて報告する。NZ2Cの基本的な構成や機能に加えて、重ね合わせ精度やスループットなどの最新性能と、それを実現するために導入した技術を紹介する。