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△ [17a-D419-5] 複合成膜手法により成膜された低屈折率SiO2光学薄膜の親水性評価[5]
キーワード：光学薄膜、親水性
本研究室ではDCパルススパッタリング法とEB蒸着を同一真空容器内で同時に稼働させ成膜を行う複合成膜手法を開発し, SiO2光学薄膜の低屈折率化に成功している. 通常のSiO2コートガラスは成膜直後こそ親水性だが, 1週間程度で親水性を失ってしまう. それに対して複合成膜手法では成膜から1年間経過しても親水性を維持している. 本研究では, この低屈折率SiO2光学薄膜の親水性発現機構の評価を目的とした.