[17a-PA05-1~7] 16.3 シリコン系太陽電池

[17a-PA05-6] TNPCon試料のµ-PCDマッピングにおける異常パターンの出現

〇(D)Wen Yuli¹、Huynh Thi Cam Tu¹、大平 圭介¹ (1.北陸先端大)

キーワード：µ-PCD測定、極薄SiNx、パッシベーション評価

c-SiウェハーをCat-CVD装置で生成したNH_xラジカルに曝すことで極薄SiN_x膜を形成したTNPCon試料において、µ-PCD法でのτ_effマッピングを行うと、「＋」パターンの低τ_eff領域が出現する現象を確認した。この「＋」パターンは、µ-Si膜のP濃度が高ければ高いほど明瞭に観察された。µ-PCD測定で用いるマイクロ波がP拡散により形成されたn⁺-Si層に沿って伝搬して試料端まで到達して反射され、干渉が発生した結果現れたものと考えられる。