[17p-PA07-1~9] 6.2 カーボン系薄膜

[17p-PA07-5] 層状窒化炭素薄膜合成におけるメラミンの前処理の影響

〇(BC)中田 健斗¹、羽渕 仁恵¹ (1.岐阜高専)

キーワード：層状窒化炭素薄膜

二次元構造を持つ層状窒化炭素(CN)は光触媒性を持ち、新しい半導体として注目されている。CNはメラミンを原料として熱CVDを用いることで層の配向性の高いCN薄膜を生成することができる。本研究では、メラミンの前処理として加熱と粉砕を行い、加熱温度がCN薄膜の合成に与える影響を調べた。前処理温度300〜400°Cの範囲で温度が高くなると膜厚が減少した。当日はX線回折の結果などを合わせて報告する。