SISPAD2023

講演情報

印刷

Oral

[Session 4] Process Simulation

2023年9月27日(水) 15:20 〜 17:00 Hall B

Chair: Nobuhiko Nakano (Keio Univ.), Junichi Hattori (AIST)

15:20 〜 15:40

[Session_4-01] Physics-Informed Compact Model for SF6/O2 Plasma Etching

*Lado Filipovic1, Josip Bobinac2, Julius Piso2, Tobias Reiter1 (1. CDL for Process Modeling of Semiconductor Based Devices and Sensors at the Institute for Microelectronics, TU Wien, 2. Institute for Microelectronics, TU Wien)

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。

パスワード