[2H05-08] 照射効果1

[2H06] 引張応力下照射で低合金鋼に形成する溶質クラスタのアトムプローブ分析

*藤井 克彦¹、福谷 耕司¹、埋橋 淳²、大久保 忠勝²、宝野 和博² (1. 原子力安全システム研究所、2. 物材機構)

キーワード：照射脆化、応力影響、溶質クラスタ、アトムプローブ検出率

照射により形成する溶質クラスタに対する引張応力負荷条件の影響を性能の異なるアトムプローブを用いて調べた。最大80%および40%以下の検出効率で観察される溶質クラスタは、応力下ではともに疎な集積状態であり、検出効率が溶質クラスタの性状の評価に大きく影響しないことが確認された。