2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[28a-F2-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2013年3月28日(木) 10:00 〜 13:00 F2 (E3号館 3F-303)

[28a-F2-4] HfO2ゲート酸化膜を用いた強相関酸化物(Nd,Sm)NiO3の電子相制御 (10:45 AM ~ 11:00 AM)

浅沼周太郎1,2,島久1,2,山田浩之1,井上公1,2,赤穗博司1,2,秋永広幸1,2,澤彰仁1,2 (産総研1,JST-CREST2)

キーワード:モットトランジスタ、強相関酸化物