2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 窒化物半導体特異構造の科学 ~成長・プロセスとエレクトロニクス展開~

[14a-B1-1~9] 窒化物半導体特異構造の科学 ~成長・プロセスとエレクトロニクス展開~

2015年3月14日(土) 08:30 〜 11:45 B1 (6B-101)

09:30 〜 09:45

[14a-B1-3] 酸性アモノサーマル法によるGaN結晶育成に及ぼす圧力の効果

〇栗本 浩平1, 2、包 全喜1, 2、斉藤 真1, 3、富田 大輔1、伊藤 みずき1、山崎 芳樹1、小島 一信1、鏡谷 勇二3、茅野 林造2、石黒 徹1、秩父 重英1 (1.東北大多元研, 2.日本製鋼所, 3.三菱化学)

キーワード:窒化ガリウム、酸性アモノサーマル法