[15a-P3-1~13] 3.7 レーザープロセシング

[15a-P3-5] パルスYAGレーザーの三倍高調波を用いたTiN薄膜のPLD成膜

〇押鐘 寧¹、中野 元博¹、村井 健介² (1.阪大院工、2.産総研)

キーワード：窒化チタン薄膜、パルスレーザー堆積法、表面プラズモンポラリトン

可視から近赤外にかけてプラズモニック特性が期待できる窒化チタン(TiN)薄膜の形成をパルスレーザー堆積法(PLD)により実施している．レーザー光源にはパルスYAGレーザーの三倍高調波(〜300mJ/pulse, 10Hz)を用い，PLDターゲットにはTiN微結晶粉末の焼結ペレットを用いている．高真空チャンバ内にて，集光したレーザーパルスをペレット表面へ斜入射で照射し，アブレーションした粒子をスライドガラス上に堆積させた．レーザー照射強度やペレット=スライドガラス間の距離を変化させた成膜実験を行なった．得られた膜について，Ｘ線回折(XRD)，Ｘ線光電子分光(XPS)，ラマン散乱分光などを行い，膜質の評価を行った．