2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[16a-P3-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2016年9月16日(金) 09:30 〜 11:30 P3 (展示ホール)

09:30 〜 11:30

[16a-P3-8] RF-MBE法を用いて成長したGaAsN層の光吸収特性

黒澤 拓也1、尾高 拓弥1、谷口 龍希1、山根 陽美1、藤田 実樹2、牧本 俊樹1 (1.早大理工、2.一関高専)

キーワード:GaAsN、吸収係数、バンドギャップエネルギー

GaAsNはN組成に応じてバンドギャップエネルギー(Eg)が大きく非線形的に変化するバンドギャップボウイングという特性を持つ。この特性によりGaAsよりも長波長側の光を吸収することができるので、タンデム型太陽電池の作製に有効である。そこで、本研究では、RF-MBE法によってGaAsN層を成長し、太陽電池の特性と密接に関係する透過・吸収測定によってGaAsN層を評価した結果を報告する。