2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[15a-313-1~11] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2017年3月15日(水) 09:00 〜 12:00 313 (313+314)

尾崎 信彦(和歌山大)

11:30 〜 11:45

[15a-313-10] 放射光その場X線回折によるInGaAs/InAs/GaAs(111)A界面のリアルタイム構造解析

佐々木 拓生1、高橋 正光1 (1.量研機構)

キーワード:放射光、MBE、その場X線回折

GaAs(111)A基板は、InAs薄膜を成長した際に、ヘテロ界面にのみ転位が集中し、貫通転位が発生しにくいなど、GaAs(001)基板とは異なる特徴が報告されており、貫通転位密度の低減に有効な基板として注目されている。そこで本研究は、GaAs(111)A基板上のInGaAs薄膜のひずみ緩和過程を明らかにすることを目的として、放射光その場X線回折によるInGaAs/ InAs/GaAs(111)A界面の構造解析を行った。