[18p-212B-1~11] 【CS.8】 7.4 量子ビーム界面構造計測, 9.5 新機能材料・新物性のコードシェアセッション

[18p-212B-7] 酸素雰囲気中オペランド軟X線光電子分光によるAu薄膜/Si基板界面化学反応の解析

〇豊田 智史¹、山本 知樹²、梶野 雄太²、住田 弘祐³、三根生 晋³、横山 和司²、吉越 章隆⁴ (1.京都大学、2.兵庫県大、3.マツダ、4.原子力研)

キーワード：オペランド軟X線光電子分光、Au薄膜/Si基板界面、固液相転移

我々は、固相-液相-気相の界面化学反応を定量解析する技術を構築するため、Au/Si界面をモデル系とし、雰囲気制御下のX線光電子分光データ解析に関する研究を進めている。Si基板上に50 nm厚のAu薄膜を蒸着し、その昇温過程について酸素雰囲気中軟X線光電子分光計測を行ったところ、酸素による固液相転移の低温化と思われる現象を観察した。Auのフェルミ準位近傍の電子状態変化との相関関係について報告する。