2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[18p-PA4-1~25] 6.2 カーボン系薄膜

2019年9月18日(水) 16:00 〜 18:00 PA4 (第一体育館)

16:00 〜 18:00

[18p-PA4-13] ヨウ素ドーピングを施したa-CNx:H薄膜の脱ドープ特性

藤古 秀人1、小渡 祐樹1、工藤 誠司1、山里 将朗1、比嘉 晃1 (1.琉球大工)

キーワード:アモルファスカーボン薄膜、ヨウ素ドーピング、アモルファス窒化炭素

a-C:H 薄膜はヨウ素ドーピングにより,光学ギャップの減少や光伝導性を示すことから,電子デバイスへの応用が期待されている.我々はこれまでに,a-C:H 薄膜に加えa-CNx:H 薄膜にも,ヨウ素ドーピングを行うことで光学ギャップなどの光学特性が変化することを示してきた.しかし,a-CNx:H へのドーピング後の時間経過に伴う膜質の変化などについては十分に調べられてはいない.そこで今回は,a-CNx:H へのヨウ素ドーピング後の脱ドープ特性について調べた.