2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-E310-1~20] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年9月19日(木) 13:15 〜 19:00 E310 (E310)

荒木 努(立命館大)、片山 竜二(阪大)、石井 良太(京大)

15:00 〜 15:15

[19p-E310-6] 気相成長m面自立AlN基板およびホモエピタキシャル層の偏光特性と発光ダイナミクス

秩父 重英1、小島 一信1、羽豆 耕治1、石川 陽一1、古澤 健太郎1、三田 清二2、Collazo Ramon3、Sitar Zlatko3、上殿 明良4 (1.東北大多元研、2.Adroit Materials、3.NC State Univ.、4.筑波大数物)

キーワード:窒化物半導体、AlN、時間分解カソードルミネッセンス

分極電界起因の量子閉じ込めシュタクル効果の影響を受けにくく、発光の電界成分がc軸に平行となる場合でも表面から光を取り出しやすい、気相輸送(PVT)成長m面自立AlN基板およびその基板上にMOVPE成長させたホモエピ薄膜の面内偏光特性および発光ダイナミクスについて報告する。