2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

[10p-M114-1~12] 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

2019年3月10日(日) 13:30 〜 18:15 M114 (H114)

中村 大輔(九大)

14:00 〜 14:30

[10p-M114-2] レーザープロセスの基礎過程解明にむけた大規模データ解析

谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)

キーワード:レーザー加工、大規模データ解析

我々はレーザープロセスを用いた自由度の高いものづくりを可能とすべく、全自動化されたその場測定を基軸としてレーザープロセスの基礎過程とものづくりを繋ぐ手法の開発に取り組んでいる。レーザープロセスを支配する極限的マルチスケール現象のごく限られた情報しか測定することはできない。我々は全自動その場測定より得られた大規模データおよびその解析を通じてレーザープロセスの最適化に資するパラメーターおよび支配法則の抽出に向けた研究を進めている。