2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

[10p-M114-1~12] 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

2019年3月10日(日) 13:30 〜 18:15 M114 (H114)

中村 大輔(九大)

14:30 〜 15:00

[10p-M114-3] 高輝度X線を用いたレーザー照射時の粉末粒子の溶融挙動観察とスパッタレスSLM法の開発

佐藤 雄二1、塚本 雅裕2、菖蒲 敬久1、村松 壽晴1 (1.日本原子力機構、2.阪大接合研)

キーワード:レーザー金属積層造形法、高輝度X線、スパッタ

レーザー金属積層造形法 (Selective Laser Melting:SLM)法は、層毎に金属粉末をレーザーで溶融・凝固を繰り返し、立体形状を形成する手法で、任意の形状や構造を造形することができる。一般に、レーザーを金属粉末に照射するとスパッタが発生する。スパッタは、造形効率を低くするだけでなく、造形内部に空孔を形成してしまい、相対密度を低くしてしまう。そこで我々は、高輝度X線を用いてレーザー照射時の金属粉末単体の溶融挙動を観察して、スパッタ発生因子を特定し、スパッタレスSLM法を開発した。