2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » ここまで来た不揮発性メモリ技術 - スピン、相変化、抵抗変化、強誘電体、それぞれの強み

[9p-Z08-1~7] ここまで来た不揮発性メモリ技術 - スピン、相変化、抵抗変化、強誘電体、それぞれの強み

2020年9月9日(水) 13:30 〜 17:20 Z08

中根 了昌(東大)、揖場 聡(産総研)、湯浅 裕美(九大)

16:50 〜 17:20

[9p-Z08-7] スピン軌道トルクを用いた面内磁化型スピン流磁気メモリの高速書き込み特性比較

塩川 陽平1、小村 英嗣1、石谷 優剛1、積田 淳史1、濱中 幸祐1、須田 慶太1、柿沼 裕二1、寺﨑 幸夫1、佐々木 智生1 (1.TDK)

キーワード:MRAM, SOT

高速不揮発メモリとして注目されるスピン軌道トルク(SOT)を用いた面内磁化型のスピン流磁気メモリには、無磁場で動作するType-Yと垂直磁場が必要なType-Xが存在する。本発表では閾値反転電流密度、書き込みProbabilityなどの書き込み特性を比較し、スピン流磁気メモリの可能性を議論する。