[15a-PB2-1~22] 8 プラズマエレクトロニクス

[15a-PB2-18] デュアルカソード大電力パルススパッタにおけるプラズマ電位制御

〇前田 直彦¹、藤井 奈々¹、ミヤ モハメッド　シュルズ¹、中野 武雄¹ (1.成蹊大院理工)

キーワード：プラズマ、スパッタリング

大電力パルススパッタ装置による薄膜形成は基板への入射エネルギーが高く、また粒子の入射直進性がよい。我々は正電位の電極を追加してプラズマ電位を上昇させることで、粒子の入射直進性の向上に成功している。ただしこの追加電極の冷却に課題を残していた。本研究では2つのカソードを使用し、交互にパルス駆動させ、パルスOFF期の正電圧印加によるプラズマ電位上昇と、電極の冷却を同時に実現する。