一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.6 超高速・高強度レーザー
09:00 〜 09:15
〇栗原 貴之1、楊 添淇1、水野 智也1、金井 輝人1、板谷 治郎1 (1.東大物性研)
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09:15 〜 09:30
〇石井 順久1、圓山 桃子1、永島 圭介1、越智 義浩1、板倉 隆二1 (1.量研関西)
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09:30 〜 09:45
〇(P)Lu Xu1,2、Bing Xue1,2、Katsumi Midorikawa2、Eiji J. Takahashi1,3 (1.UFSXP, RAP, RIKEN、2.AS, RAP, RIKEN、3.ELS, CPR, RIKEN)
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09:45 〜 10:00
〇新井 滉1、岡崎 大樹1、森近 一貴1、芦原 聡1 (1.東大生研)
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10:00 〜 10:15
〇(B)吉岡 亮1,2、篠原 康1、岡本 拓也1、国橋 要司1、加藤 景子3、増子 拓紀4、関根 佳明1、日比野 浩樹5、片山 郁文2、武田 淳2、小栗 克弥1 (1.NTT物性研、2.横国大、3.名大、4.東大、5.関学大)
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10:15 〜 10:30
〇爲本 龍汰1、本田 亜沙美1、山根 啓作1、鈴木 雅人1、戸田 泰則1、尾松 孝茂2,3、森田 隆二1 (1.北大工、2.千葉大融合理工、3.千葉大分子キラリティー)
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10:30 〜 10:45
〇田原 弘量1,2、坂本 雅典2、寺西 利治2、金光 義彦2 (1.京大白眉センター、2.京大化研)
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10:45 〜 11:00
〇峰本 紳一郎1、野下 隼2、原 直樹2、酒井 広文1 (1.東大院理、2.東大理)
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11:00 〜 11:15
〇福井 義光1、織茂 悠貴1、寺村 拓磨1、佐藤 健1、石川 顕一1 (1.東大院工)
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11:15 〜 11:30
〇(P)Yang Li1、Takeshi Sato1、Kenichi Ishikawa1 (1.The Univ. of Tokyo)
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