[24a-F307-1~8] 6.4 薄膜新材料

[24a-F307-1] キレートフレーム法で作製した多孔質な酸化マグネシウム断熱膜の熱伝導率

〇徐 若暉¹、小松 啓志¹、中村 淳^1,2、伊藤 治²、齋藤 秀俊¹ (1.長岡技術科学大学、2.中部キレスト)

キーワード：キレートフレーム法、酸化マグネシウム断熱膜、熱伝導率

キレートフレーム法は、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)金属錯体などの金属イオンをキレートした金属錯体原料粉末の分解及び担持金属イオンの酸化反応を進行させることで金属酸化物を得る手法である¹⁾。本研究は、キレートフレーム法を用いて、多孔質な酸化マグネシウム(MgO)膜の製膜を目指し、鋳鋼基板で製膜実験を行った。原料には、マグネシウムイオンをキレートしたヒドロキシエチルイミノ二酢酸(HIDA)金属錯体、HIDA･Mgを用いた。本研究では、さらにEDTA・Al・NH₄溶液をMgO膜に塗布焼成することで形成するMgAl₂O₄により、膜の強度の向上を狙う。加えて、周期加熱法と呼ばれる簡便な熱拡散率の測定を実施し、熱拡散率と熱伝導率の関係から製膜したMgO膜の熱伝導率を算出した。