[D28-32] パルスラジオリシス

[D30] Femto second pulse radiolysis study of radiation chemistry on polymer resist

^〇Taiki Igahara¹, Takafumi Kondoh¹, Seiichi Tagawa¹, Jinfeng Yang¹, Kimihiro Norizawa¹, Koichi Kan¹, Yoichi Yoshida¹, Masao Gohdo¹ (1.The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University)

Keywords:polymer, radation chemistry, pulse radiolysis, photocathode radio frequency gun

フェムト秒パルスラジオリシスを用いて、レジスト高分子の放射線化学初期過程を観測した。次世代の極端紫外光半導体リソグラフィーでは、レジスト高分子のイオン化により反応が開始する。そのため、レジスト高分子のイオン化から始まる放射線化学初期過程の解明が重要である。今回の発表では、レジスト高分子のモデル化合物であるポリαメチルスチレンをテトラヒドロフラン・ジクロロメタンの混合溶媒に溶かしたサンプルを測定に用いた。テトラヒドロフランは、ポリαメチルスチレンにホールを移さず、またジクロロメタンはイオン化によって生成した溶媒和電子を捕捉した。従って、ポリαメチルスチレンの直接イオン化によるフェニルダイマーラジカルカチオンの生成・減衰過程が本溶媒系では観測され、固体高分子レジストの単分子内での反応を再現していると考えられる。