[1G10-14] Beam Application

[1G14] Study on radiation-induced reaction process of metal resist ligands

*Tomoe Otsuka¹, Yusa Muroya¹, Takahiro Kozawa¹, Takuya Ikeda², Yoshitaka Komuro², Daisuke Kawana² (1. ISIR, Osaka Univ., 2. Tokyo Ohka Kogyo)

Keywords:Metal resist, Ligand as carboxylic acid, Product analysis, Radiation-induced reaction

カルボン酸配位子を持つメタルレジストは高感度かつ耐エッチング性が高いことから、次世代レジストとして注目されている。しかし、このレジストに対するビーム誘起反応のメカニズムについては未だによくわかっていない。そこで本研究では、放射線照射により、カルボン酸が脱炭酸するという仮定をもとにガスクロマトグラフィー等を用いて、各種カルボン酸配位子から生じる二酸化炭素のG値を比較した。