[2I04-09] 測定・積分実験

[2I04] 230MeV/u α粒子入射荷電粒子生成二重微分断面積の測定(3)

*古田 稔将¹、魚住 裕介¹、山口 雄司²、岩元 洋介²、古場 裕介³ (1. 九大、2. JAEA、3. QST)

キーワード：二重微分断面積、PHITS、α粒子入射

本研究では、230 MeV/uのα粒子入射荷電粒子生成反応の二重微分断面積（DDX）の取得を目的とする。230MeV/uのα粒子ビームを標的核C,Coに入射し、その結果生じた放出角度15^°,20^°,40^°,60^°における荷電粒子p,d,t,³He,αの生成量を測定し、各標的核・放出角度のDDXを取得した。検出器としてSi半導体検出器、GSOシンチレータ、PWOシンチレータで構成されたカウンターテレスコープを使用し、放出粒子の種類およびエネルギーの同定にはE-ΔE測定法を用いた。