[3H01-03] パルスラジオリシス

[3H03] ポリヒドロキシスチレン系レジストポリマーのラジカルカチオンのダイナミクス

*岡本 一将¹、室屋 裕佐¹、古澤 孝弘¹ (1. 阪大)

キーワード：パルスラジオリシス、電子線、レジスト材料、放射線化学、ラジカルカチオン

量子ビームによる微細加工技術であるEUVリソグラフィや電子線リソグラフィにおいて、レジスト中のベースポリマーがイオン化され、ラジカルカチオンが生成するが、そのダイナミクスの詳細はレジスト設計にとって重要である。そこでポリヒドロキシスチレンのt-BOC基による保護率を変えたポリマーを対象にパルスラジオリシスを行い、それらのラジカルカチオンの放射線化学初期過程について調べた。さらに、量子化学的アプローチを組み合わせて、ラジカルカチオン種のダイナミクスを明らかにした。