水素の製造と利用のための触媒技術3

[A2講演 2G01] 高濃度H₂S存在下におけるCeO₂およびCeO₂/MgOを用いたドライCH₄改質反応

〇平 健治¹、杉山 武晴²、永長 久寛³ (1. 日本製鉄、2. 九州大学シンクロトロン光利用研究センター、3. 九州大学大学院総合理工学府)