14:20 〜 15:00
[1A08] スラリープロセス最適化のための分散状態制御
キーワード：スラリー、 可逆的分散状態制御、圧力応答性粒子、イオン架橋
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講演情報
一般シンポジウム（口頭）
8. 一般シンポジウム 2: 次世代マテリアルへの挑戦：最新コロイド技術による材料設計とプロセス最適化
[1A08-08] 8. 一般シンポジウム 2: 次世代マテリアルへの挑戦：最新コロイド技術による材料設計とプロセス最適化
2023年9月12日(火) 14:20 〜 15:00 A会場 (C3-100 & オンライン)
Chair:武田 真一(武田コロイドテクノ・コンサルティング(株))