スケジュール 6 いいね! 0 [Q5-04] ブロックコポリマー水溶液中でのシリカ表面間力のAFM測定:高濃度共存イオンの影響 *中山 友梨香1、青木 良太2、今村 維克1、石田 尚之3 (1. 岡山大学大学院自然科学研究科 (日本)、2. 岡山大学工学部 (日本)、3. 同志社大学理工学部 (日本)) キーワード:原子間力顕微鏡、ブロックコポリマー、高濃度共存イオン 要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。 » 参加者用ログイン