講演情報

S10. キャパシタ技術の新しい展開

【キャパシタ技術の新しい展開】
セッション5（一般講演3）

2018年3月9日(金) 14:30 〜 15:45 T会場 (講義棟507号室)

座長:内田悟史(関西大学)

主催：キャパシタ技術委員会

15:00 〜 15:15

[1T11] RuO₂/H₂O界面の擬キャパシタ反応における表面電荷移動反応の理論的解析

〇渡部絵里子¹、牛山浩¹、山下晃一¹、森川裕介¹、朝倉大輔²、大久保將史¹、山田淳夫¹ (1. 東京大学、2. 産業技術総合研究所)