IVC-22

講演情報

Parallel Sessions

Vacuum Science and Technology

[Mon-D1] Vacuum Science and Technology -- Outgassing, Adsorption, Desorption

2022年9月12日(月) 13:15 〜 15:15 Room D (Mid-sized Hall B)

14:00 〜 14:15

[Mon-D1-4] Vacuum Performance of a Semiconductor Wafer Handling System made by Aluminum Alloy with Low Outgassing Surface Finish

*Naoki Ogawa1, Hiroki Kurisu2, Setsuo Yamamoto2 (1. RORZE Corporation (Japan), 2. Univ. of Yamaguchi (Japan))

キーワード:outgassing, aluminum alloy, surface finishing

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