IVC-22

講演情報

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Parallel Sessions

ISSP / Surface Engineering

[Thu-H1] ISSP / Surface Engineering

2022年9月15日(木) 10:15 〜 11:45 Room H (Meeting Room 204)

11:15 〜 11:30

[Thu-H1-4] Diffusion barrier properties of cosputtered W–Si–N films

Yung-I Chen1, *Kuo-Hong Yeh1, Tzu-Yu Ou2, Li-Chun Chang2 (1. National Taiwan Ocean University (Taiwan), 2. Ming Chi University of Technology (Taiwan))

キーワード：Diffusion barrier, Sputtering, Annealing

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