Crystal orientations of hafnium nitride thin films prepared at different positions by rf magnetron sputtering

11:30 〜 11:45

[Thu-H1-6] Crystal orientations of hafnium nitride thin films prepared at different positions by rf magnetron sputtering

*Tomoaki Osumi¹, Yasuhito Gotoh¹ (1. Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University (Japan))

キーワード：hafnium nitride, crystal orientation, substrate position, rf magnetron sputtering

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