IVC-22

講演情報

Parallel Sessions

ISSP / Surface Engineering

[Wed-H1] ISSP / Surface Engineering

2022年9月14日(水) 14:00 〜 15:30 Room H (Meeting Room 204)

15:00 〜 15:15

[Wed-H1-3] The Role of Reactive Gas Pulsing Synchronized with Digitally Processed DC Sputtering

*Hideo Isshiki1, Yasuhito Tanaka1,2, Shinichiro Saisho1,2 (1. The University of Electro-Communications (Japan), 2. Shincron Co., LTD. (Japan))

キーワード:digitally processed DC sputtering, atomically precise deposition, metal oxide layered crystals, rare earth crystalline compounds

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