IVC-22

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Poster Session

Poster Session (12:30-14:00)

[Wed-PO1A] Poster Session (12:30-14:00) Category A

2022年9月14日(水) 12:30 〜 14:00 Poster A (Main Hall)

[Wed-PO1A-14] Award Applied
Effect of Helium as Diluting Gas on Film Deposition Process during Acetylene Plasma

*Atsuya Kuwada1, Tatsuo Nakai1, Ryo Sasamoto1, Masanori Shinohara2, Takashi Matsumoto3, Satoshi Tanaka3 (1. Graduate school of engineering, Fukuoka University (Japan), 2. Department of Electrical Engineering, Fukuoka University (Japan), 3. Tokyo Electron Technology Solutions Limited (Japan))

キーワード：Acetylene Plasma, Helium, Deposition, FT-IR

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