Chloride attack Ⅱ

[1145] Influence of residual chloride ion on half potential of RC member repaired by patch repair material with chloride adsorption agent

Yuya KAZAMA¹, Kento KANEYASU¹, Nobue NISHI², Yuuki MURAKAMI¹ (1.長岡工業高等専門学校 2.ネクスコ・メンテナンス新潟)

Keywords:a half cell potential, chloride adsorption agent, macro-cell corrosion, residual chloride ion, マクロセル腐食, 塩分吸着剤, 残留塩化物イオン, 自然電位

本研究では，「塩分吸着剤」を添加した補修材を用いて断面修復を施した際の補修部の自然電位に及ぼす既設コンクリートの残留塩化物イオンの影響について検討した。残留塩化物イオン濃度の異なる既設コンクリートに，「塩分吸着剤」を添加した補修材を主として，5種類の補修を施した試験体を作成し，乾湿繰返し試験を実施した。その結果，補修部の自然電位は，既設部の残留塩化物イオン量の影響を受け，自然電位が卑側の値を示す傾向にあった。また補修部境界近傍の腐食量は自然電位との相関が認められた。