原子層堆積法による酸化アルミニウム膜を用いた高信頼性Cu配線技術の開発

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講演セッション » 配線板とその製造技術

Mon. Mar 11, 2019 3:30 PM - 5:00 PM B会場 (E館E508)

座長:上原利久

3:45 PM - 4:00 PM

〇山崎智生¹ (1. 新光電気工業株式会社)

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