次世代半導体デバイス配線に向けた無電解Ni合金めっき膜の作製と電気特性評価

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一般演題

講演セッション » 複合

Thu. Mar 5, 2020 11:00 AM - 12:15 PM D会場 (A棟A106)

座長:林秀臣

12:00 PM - 12:15 PM

〇林藤壮史¹、岡本尚樹¹、齊藤丈靖¹、北島彰² (1. 大阪府立大学　工学研究科、2. 大阪大学ナノテクノロジー設備供用拠点)

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