[G] High temperature process/Materials Creation

[8] CS₂ガス硫化によるSiS₂の作成

Yashima Yuta^1,2, *Suzuki O. Ryousuke¹, Kaneko Takumi¹, Ahmadi Eltefat¹, Watanabe Takashi³, Nogami Genki³ (1. 北大工（院生）、、2. JR東海、3. 三菱ガス化学)

Keywords:硫化シリコン、合成、二硫化炭素、昇華、気相合成

CS₂ガスを用いてSiと反応させて、SiS₂の融点以下の1273 KでSiS₂単相の合成に成功した。Si源としてSiC, Si₃N₄, Al-Si合金液体を検討した。