日本金属学会 2019年秋期(第165回)講演大会

講演情報

一般講演

6.材料プロセシング » 固相プロセス 固相・溶接プロセス

[G] 接合・接着・実装・溶接・複合技術(2)

2019年9月13日(金) 11:00 〜 16:20 C会場 (一般教育棟D棟1階D11)

座長:村上 敬(国立研究開発法人産業技術総合研究所)、荘司 郁夫(群馬大学)、梶原 正憲(東京工業大学)、苅谷 義治(芝浦工業大学)

15:20 〜 15:35

[94] 半導体用ポリイミド層間絶縁膜の剥離靭性評価

*大野 堅太1、苅谷 義治2 (1. 芝浦工大(院生)、2. 芝浦工大(工))

キーワード:Polyimide film、Interlayer dielectric film、Peel-off、Peel test、Critical energy release rate

半導体用層間絶縁膜と配線層の剥離靱性値を用いた剥離評価を目的とし,ピール試験による感光性ポリイミドと銅の剥離靱性値の算出結果および有限要素法による配線構造解析と合わせた剥離判定結果について講演する.

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