日本金属学会 2019年秋期(第165回)講演大会

講演情報

ポスターセッション

5.材料化学 » 材料化学

[P] 5.材料化学

2019年9月11日(水) 12:30 〜 14:30 ポスターセッション会場 (50周年記念館)

12:30 〜 14:30

[P118] 斜入射スパッタリング法により作製したWO3薄膜の微細構造とエレクトロクロミック特性

有賀 直輝1、*細谷 昌史1、井上 泰志1、高井 治2 (1. 千葉工大工、2. 関東学院大)

キーワード:スパッタリング、斜入射堆積法、WO3、エレクトロクロミック

斜入射スパッタリング法により酸化タングステン(WO3)膜を作製し,膜構造と光学特性および色変化時間において平滑なWO3膜と比較することを目的とする.

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