[P] P84~P88

[P84] Thickening of nitrided layer by two-step plasma nitriding from low temperature to high temperature

*Tomoki Utsunomiya¹, akio Nishimoto² (1. kansai university (graduate student), 2. kansai university)

Keywords:アクティブスクリーンプラズマ窒化、耐食性、S相、プラズマ窒化、表面改質

アクティブスクリーンプラズマ窒化において低温処理を施し試料表面部に窒素を濃化させ、その後高温短時間処理の二段階での窒化処理により窒素を内部まで拡散させた時のそれぞれの処理方法の比較調査を行った。