日本金属学会2020年秋期(第167回)講演大会

講演情報

一般講演

9.電気・磁気 関連材料 » 電気・電子・光関連材料

[G] 電気・電子・光関連材料

2020年9月18日(金) 13:00 〜 16:55 E会場 (ZoomE会場)

座長:須藤 祐司(東北大学)、田中 秀和(大阪大学)、石川 史太郎(愛媛大学) 副座長(座長補佐):安藤 大輔(東北大学)、阿部 世嗣(公益財団法人電磁材料研究所)、藤原 康文(大阪大学)

14:50 〜 15:05

[7] Cr2Ge2Te6相変化薄膜の結晶高抵抗化メカニズム

*畑山 祥吾1、須藤 祐司1 (1. 東北大工)

キーワード:相変化メモリ、アモルファス、Cr-Ge-Te、局所構造

逆抵抗変化型PCMであるCrGTは優れた特性を有するものの、結晶相の高抵抗化メカニズムは明らかになっていない。本研究では局所構造と化学結合状態の観点からその調査を行った。

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