[P] 5.材料化学

[P125] Quantitative evaluation of stacking faults in epitaxial Cr (N,O) thin films

*IWASAKI Yusuke¹, NAKAYAMA Tadachika¹, SUEMATSU Hisayuki¹, SUZUKI Tsuneo¹ (1. Nagaoka University of Technology)

Keywords:Hard coating、Pulsed Laser Deposition、Chromium nitride、Epitaxial growth、Stacking faults

Cr(N,O)薄膜は積層不整を内在することにより高硬度化を実現した。積層不整の度合いを評価するため、酸素含有量が様々なエピタキシャルCr(N,O)薄膜のD5₁相をX線回折により評価した。