日本金属学会2021年秋期(第169回)講演大会

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ポスターセッション

5.Materials Chemistry » Materials Chemistry

[P] P142~P149

Tue. Sep 14, 2021 1:00 PM - 2:30 PM ZoomRm.Poster

1:00 PM - 2:30 PM

[P147] EC Properties of Y-doped InN Film Prepared by Glancing-angle Reactive Evaporation

MIZUKI IDE1, *SAKI SAKI1, YASUSI INOUE2, OSAMU TAKAI3 (1. Chiba Institute of Technology, 2. Chiba Institute of Technology, 3. Kanto Gakuin University)

Keywords:斜入射堆積法、窒化インジウム、イットリウムドープ、吸着誘起型エレクトクロミック

斜入射反応性蒸着法によりY添加InN薄膜を作製し,EC波長域を長波長側へシフトさせることが可能か調査した.Y添加によりInN結晶性が低下し,酸素不純物が増加したため光吸収端は短波長側へシフトした.

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