[P] P21~P23

[P22] Evaluation of the Effect of Electron Beam Irradiation on Magnetostrictive Thin Films on Glass Substretes Applying Electrochemical Hydrogen loading

*Seo ONO¹, Ren TOKIWA¹, Mutsuki MATSUMOTO¹, Eiichi MIURA¹, Keisuke TAKEDA¹, Hideki KIMURA³, Yoshihito MATSUMURA³, Yoshitake NISHI^2,3, Helmut　Takahiro UCHIDA³ (1. 東海大工（院生）、2. KISTEC、3. 東海大工)

Keywords:磁歪薄膜、ガラス基板、内部応力、電子線照射、ヤング率、電気化学的水素ローディング

電子線照射ガラス基板および未照射ガラス基板上にNi膜を成膜し，電気化学的に導入量を厳密に制御した水素が薄膜の内部応力に及ぼす影響と電子線照射条件が及ぼす影響について検討した