一般講演
6.材料プロセシング » 固相プロセス 固相・溶接プロセス
2022年9月22日(木) 12:30 〜 15:45 P会場 (C棟3階C33)
座長:O Minho(東京工業大学)、荘司 郁夫(群馬大学)、伊藤 和博(大阪大学)
※表示の講演時間には質疑応答時間も含みます。
（質疑応答時間5分、基調講演と招待講演は5～10分）
12:30 〜 12:45
*大谷 樹生1、苅谷 義治2、佐々木 幸司3 (1. 芝浦工大（院生）、2. 芝浦工大、3. ナミックス株式会社)
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12:45 〜 13:00
*濱田 真行1 (1. 大阪産業技術研究所)
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13:00 〜 13:15
*恩田 真1、苅谷 義治2 (1. 芝浦工大 (院生)、2. 芝浦工大)
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休憩 (13:15 〜 13:30)
13:30 〜 13:45
*木村 光貴1、苅谷 義治2 (1. 芝浦工大（院生）、2. 芝浦工大)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
*三須 俊幸1、苅谷 義治2、金井 宏喜1 (1. 芝浦工大（院生）、2. 芝浦工大)
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14:00 〜 14:15
*河邊 巧直1、苅谷 義治2、原口 誠3、小川 卓3、伊東 宏和3 (1. 芝浦工大（院生）、2. 芝浦工大、3. JSR株式会社)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
*渡辺 岬1、苅谷 義治2 (1. 芝浦工大（院生）、2. 芝浦工大)
スケジュール
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休憩 (14:30 〜 14:45)
14:45 〜 15:00
*川鍋 渉1、飯岡 諒1、荘司 郁夫1、小林 竜也1 (1. 群馬大学大学院理工学府)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
*本間 荘一1,2、高野 勇佑1、赤田 裕亮1、渡部 武志1、福田 昌利1、井本 孝志1、西川 宏3 (1. キオクシア、2. 阪大工（院生）、3. 阪大接合科学研)
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15:15 〜 15:30
*大橋 修1、春本 高志2、福留 隆夫3、窪田 梓3、小野寺 浩3、木村 隆4、相原 健作5、並木 秀俊5 (1. ウエルボンド、2. 東京工業大学、3. 日本電子、4. NIMS (日本電子)、5. 東京藝術大学)
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15:30 〜 15:45
*朴 亨原1、松田 真生1、石高 寛士1、舟瀬 真一1、富澤 淳1、柳本 潤2、上田 隆司3 (1. 公立小松大学、2. 東京大学、3. 金沢大学)
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