[P] P176~P191

[P187] Fabrication of Copper-oxide Films by Glancing-angle Reactive Sputtering

*Daichi Oikawa¹, Yasushi Inoue², Osamu Takai³ (1. Chiba Inst. Technol., 2. Chiba Inst. Technol., 3. Kanto Gakuin Univ.)

Keywords:斜入射堆積法、酸化銅、吸着誘起型エレクトロクロミック

吸着誘起型エレクトロクロミック(AiEC)現象はInNなどのn型縮退半導体で報告されている．p型半導体特性を示すことが報告されている酸化銅薄膜を作製し，AiEC現象が起こるか調査した．