日本金属学会2022年秋期(第171回)講演大会

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ポスターセッション

6.Materials Processing » Materials Processing

[P] P192~P204

Tue. Sep 20, 2022 3:30 PM - 5:00 PM FIT Arena

3:30 PM - 5:00 PM

[P201] Effect of Ge or Sn addition on Single Crystal Formation Ability and Crystal Growth of GaSb Magnetic Semiconductor Fine Particles

*Kei NAKAYAMA1, Katuhisa NAGAYAMA1 (1. Shibaura Institute of Tecnology)

Keywords:ドロップチューブプロセス、単結晶形成能、結晶成長、III-V族化合物半導体、IV族元素

本研究はGaSb系n型単結晶磁性半導体の創製を目指し、IV族元素GeまたはSnを添加したGaSb3元磁性半導体微粒子試料を作製し、単結晶形成能と結晶成長を解析することを目的とした。

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