[P] P37~P53

[P41] Formation of metastable phases and electrical/optical properties of sintered nanocrystalline silicon processed by high-pressure torsion

*Zhuohang Li¹, Marina Takaira¹, Yoshifumi Ikoma², Masamichi Kohno², Yukiko Ozaki², Ryohei Nagahiro³, Junichiro Shiomi⁴ (1. Kyushu Univ., 2. Kyushu Univ., 3. Univ. of Tokyo, 4. Univ. of Tokyo)

Keywords:ナノSi、準安定相、HPT加工、焼結体、フォトルミネッセンス、X線回折測定、ラマン散乱分光測定、比抵抗

SiのHPT加工では、これまでに単結晶を用いた研究が報告されている。しかし多結晶Siを出発材とした場合の変化は不明である。本研究では、ナノSi焼結体をHPT加工した際の準安定相形成および電気・光学特性を調査した。